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ti.\*:("Nouvelles tendances en procédés magnétron et arc pour le dépôt de couches minces")

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Synthesis and characterisation of c-BN film by triode sputteringMORTET, V; DJOUADI, M. A; LAMBERTIN, M et al.Le Vide (1995). 2000, Vol 55, Num 297, pp 283-285, issn 1266-0167Conference Paper

Improving planar magnetron sputter sourcesDE BOSSCHER, W.Le Vide (1995). 2000, Vol 55, Num 297, pp 237-247, issn 1266-0167Conference Paper

Les magnétrons à cathodes rotatives : avantages et désavantages = Rotating cathod magnetrons : advantages and disadvantagesDE GRYSE, R.Le Vide (1995). 2000, Vol 55, Num 297, pp 248-257, issn 1266-0167Conference Paper

Characterization of triode sputtered chromium nitride coatings for wood machining applicationNOUVEAU, C; DJOUADI, M. A; LAMBERTIN, M et al.Le Vide (1995). 2000, Vol 55, Num 297, pp 279-282, issn 1266-0167Conference Paper

Contrôle in situ de l'épaisseur et des propriétés optiques de films transparents par spectrométrie optique = In situ control of thickness and optical properties of transparent films using optical spectrometryPERRY, F; PIGEAT, P; BILLARD, A et al.Le Vide (1995). 2000, Vol 55, Num 297, pp 286-290, issn 1266-0167Conference Paper

Simulation particulaire d'une décharge à cathode magnétron excitée en radio-fréquences = Particle simulation of RF excited magnetron cathod dischargeMINEA, T. M; BRETAGNE, J; GOUSSET, G et al.Le Vide (1995). 2000, Vol 55, Num 297, pp 276-278, issn 1266-0167Conference Paper

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